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IBM 世界最小のシリコントランジスタ IBMはゲート長6nmの世界最小となるシリコントランジスタの試作に成功したと発表した。これは現在生産可能なトランジスタの10分の1以下の大きさとなる。IBMでは、このサイズのトランジスタを利用することで、コンピュータチップに現在の100倍多くのトランジスタを実装することが可能になるとしている。またゲート長の縮小によって、性能を向上させつつチップの製造コストや消費電力を抑えることが可能になる。ただし、今後も高性能化に伴う電力密度と発熱の増大に対処するための技術開発が必要とされている。 IBMでは、ハロー・インプラントと波長248nmのリソグラフィーを用いSOIウェハー上にシリコン・チャネル素子と回路を作成、また、より強力なハローを用いることで4nmのシリコン層、ゲート長6nmの動作するMOSFETを試作したとされる。 IBM website
December 10, 2002 | ||