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TSMC 0.11μプロセスを2004年前半に立ち上げる見通し TSMCは0.11μプロセスを用いたウェハーを2004年Q1より出荷する見通しであるようだ。TSMCでは、0.11μプロセスによるウェハーをQ1より出荷、Q2には量産を開始する見込みであるという。TSMCは0.11μプロセスを導入する最初のファウンドリになると見られ、また平均販売価格の上昇により利益を拡大すると見られている。ちなみに、ATiがRadeon 9600 XTの後継となるRV380を、Low-ｋ絶縁素材を用いた0.11μプロセス製造とする可能性があると言われている。なお、TSMCでは90nmプロセスによる製造を2004年後半に開始する見通しのようだ。 Source: SiliconStrategies
October 30, 2003 | ||